一、產(chǎn)品名稱：純鈦絲
鈦絲產(chǎn)品的牌號、狀態(tài)和規(guī)格應符合表1的規(guī)定。
表1
| 牌號 | 狀態(tài) | 直徑 mm |
| TA1、TA1ELI、 TA2、TA2ELI、TA3、TA3ELI、 TA4、TA7、TA9、 TA10、TC1、TC3 | 退火狀態(tài)（M）加工狀態(tài)（Y或R） | 0.1-7.0 |
| TC4 | 1.6-7.0 |
| 注：鈦絲材的用途和供應狀態(tài)應在合同中注明，未注明時一律按焊絲、加工狀態(tài)（Y或R）供應。 |
鈦焊絲的化學成份應符合表2的規(guī)定。
表2
| 牌號 | 化學成分 |
| 主要成分，% | 雜質(zhì)元素，%；不大于 |
| Ti | Al | V | Sn | Pb | Mo | Ni | Fe | O | C | N | H |
| TA0 | 基 | - | - | - | - | - | - | 0.10 | 0.10 | 0.05 | 0.03 | 0.012 |
| TA0EL I | 基 | - | - | - | - | - | - | 0.10 | 0.10 | 0.03 | 0.02 | 0.008 |
| TA1 | 基 | - | - | - | - | - | - | 0.20 | 0.15 | 0.05 | 0.03 | 0.012 |
| TA1EL I | 基 | - | - | - | - | - | - | 0.20 | 0.10 | 0.05 | 0.03 | 0.008 |
| TA2 | 基 | - | - | - | - | - | - | 0.25 | 0.20 | 0.05 | 0.05 | 0.012 |
| TA2EL I | 基 | - | - | - | - | - | - | 0.25 | 0.18 | 0.05 | 0.04 | 0.008 |
| TA3 | 基 | - | - | - | - | - | - | 0.35 | 0.25 | 0.05 | 0.05 | 0.012 |
| TA3EL I | 基 | - | - | - | - | - | - | 0.30 | 0.25 | 0.05 | 0.05 | 0.008 |
| TA4 | 基 | 2.0-3.3 | - | - | - | - | - | 0.30 | 0.15 | 0.05 | 0.04 | 0.012 |
| TA7 | 基 | 4.0-6.0 | - | 2.0-3.0 | - | - | - | 0.45 | 0.15 | 0.05 | 0.05 | 0.012 |
| TA9 | 基 | - | - | - | 0.12-0.25 | - | - | 0.20 | 0.18 | 0.05 | 0.03 | 0.012 |
| TA10 | 基 | - | - | - | - | 0.2-0.4 | 0.6-0.9 | 0.25 | 0.20 | 0.05 | 0.03 | 0.012 |
| TC3 | 基 | 3.5-4.5 | 3.5-4.5 | - | - | - | - | 0.25 | 0.15 | 0.05 | 0.05 | 0.012 |
| TC4 | 基 | 3.5-4.5 | 3.5-4.5 | - | - | - | - | 0.25 | 0.18 | 0.05 | 0.05 | 0.012 |
絲材直徑允許偏差應符合表3的規(guī)定
表3
mm
| 直徑 | 0.1-0.2 | ＞0.2-0.5 | ＞0.5-1.0 | ＞1.0-2.0 | ＞2.0-4.0 | ＞4.0-7.0 |
| 允許偏差 | -0.025 | -0.04 | -0.06 | -0.08 | -0.10 | -0.14 |
| 注：經(jīng)供需雙方協(xié)商，可供應其它規(guī)格或允許偏差的絲材。 |
結構件絲退火狀態(tài)室溫力力學性能應符合表4的規(guī)定
表4 mm
| 牌號 | 室溫力學性能，不小于 | 牌號 | 室溫力學性能，不小于 |
| 抗拉強度 σb,MPa | 伸長率 δ，% | 抗拉強度 σb,MPa | 伸長率 δ，% |
| TA0 | 280 | 20 | TA3 | 540 | 15 |
| TA1 | 370 | 18 | TC4 | 895 | 10 |
| TA2 | 440 | 15 |
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二、產(chǎn)品名稱：鈦鋁靶
靶材的主要指標之一是密度，靶材的純度對薄膜性能影響較大，更是在靶材的原先的技術工藝中減少靶材固體中的氣孔，有效提高了濺射薄膜性能，并且影響了薄膜的光學和電學性能。靶材密度越高，薄膜性能越好。
靶材通常為多晶結構，晶粒大小從微米到毫米量級。晶粒細小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快，而晶粒尺寸相差較小的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。
鈦鋁靶參數(shù)
1、表面：光亮，酸洗面
2、牌號：TiLv80:20，TA0,TA1,TA2，TC4
3、純度：99.95%
4、密度：4.51g/cm3
5、加工范圍：按客戶要求
6、規(guī)格：可根據(jù)客戶要求定做生產(chǎn)。
7、應用領域：鈦鋁靶廣泛應用于太陽能，平板顯示，玻璃及裝飾鍍膜，石油化工，真空制鹽，氯堿工業(yè)，制藥，精細化工，電解，電鍍，海水淡化、航空航天等行業(yè)。
三、產(chǎn)品名稱：鎳靶
牌號：N6, N4
用途：鎳靶用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業(yè)等。
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