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新能源用鈦靶材是用于薄膜沉積的高純度鈦或鈦合金材料（純度≥99.99%?），遵循半導體級制造標準?，主要應用于太陽能電池透明導電層?、儲能設備電極?及顯示技術光電轉換膜?等領域。... 【詳情】

光學級鈦靶材是高端鍍膜的核心材料，其性能直接影響光學系統的能量損耗（每0.1%雜質增加約2%的散射損失）。在半導體和顯示領域靶材趨向大尺寸化（如G10.5代線需4m長靶）的背景下，光學靶材更聚焦于微觀結構控制，需結合XRD（X射線衍射）進行擇優取向分析，確保（002）晶面占比＞70%，以實現最優膜層生長... 【詳情】

鈦管靶憑借其高材料利用率和均勻鍍膜特性，在顯示面板（如G10.5代線需Φ450×2500mm靶管）和光伏領域占據主導地位。相比鈦板靶，其采購成本高約30%，但綜合鍍膜效率提升50%以上。特殊應用（如EUV鍍膜）需選擇單晶鈦管靶（晶向偏差<1°），并配合... 【詳情】

鈦靶材因其優異的綜合性能（性價比、成膜質量、工藝適應性），占據真空鍍膜靶材市場約35%的份額（2023年數據）。相較于鉭、鈮等稀有金屬靶材，鈦靶的濺射速率快20-50%，且成本僅為1/3-1/5。在精密光學鍍膜中，需選用EBM工藝制備的（002）擇優取向靶材，配合離子束輔助沉積（IBAD），可將膜層表面粗糙度控制在0.5 nm以下，滿足激光陀螺儀等超精密器件的需求。... 【詳情】

鈦靶管憑借高材料利用率與鍍膜均勻性，在顯示面板（如8K OLED）和光伏領域占據主導地位。相較于鎳靶管，其成本高3-4倍，但耐高溫性優異（Ti熔點比Ni高213℃），適用于硬質涂層；對比鋯靶管，鈦靶管的濺射速率快20%，且成本僅為1/3。在采購時需重點關注 晶粒取向控制 與 雜質元素溯源... 【詳情】

圓柱鈦靶材憑借其高致密性與工藝適應性，在半導體（如5 nm節點TiN阻擋層）和超精密光學領域不可替代。相較于鈦管靶，其材料利用率低約20%，但更適合小尺寸高精度鍍膜（如Φ200 mm晶圓）；對比鎳靶塊，鈦靶的耐高溫性（熔點高213℃）和膜層硬度（TiN硬度達2000 HV）優勢顯著。在高端應用中，需選擇HIP工藝制備的納米晶靶材... 【詳情】

裝飾用高純鈦靶憑借其優異的成膜質量和環保特性，成為高端表面處理的首選。選購時需嚴格把控純度與供應商技術實力，并注意工藝參數適配性。與鎳、鋯等靶材相比，鈦靶在裝飾領域的色彩表現和耐久性更具優勢，但成本較高，需根據具體需求權衡選擇... 【詳情】

平面顯示用鈦靶是高端顯示面板制造的核心材料，其超純、高密度和微觀均勻性要求遠高于裝飾用鈦靶。選購時需重點關注雜質控制、晶粒細化工藝及供應商的行業經驗。相較于鈦管靶和靶塊，鈦板靶在大面積鍍膜中更具優勢但成本較高，需根據設備類型和工藝需求靈活選擇。使用中需嚴格遵循低氧操作規范... 【詳情】

高純鈦靶以其超低雜質含量和優異成膜性能，成為高端制造領域的核心材料。與鈦合金靶相比，其純度更高但硬度較低；與純鋯靶相比，成本更低但耐高溫性稍遜；與純鎳靶相比，耐腐蝕性更優但導電性不足。選購時需嚴格把控純度與微觀結構，并結合應用場景優化濺射工藝，以最大化靶材利用率與薄膜性能... 【詳情】

鍍膜用鈦管靶憑借其高利用率、優異膜厚均勻性和旋轉濺射適應性，成為大面積連續鍍膜的核心材料。相較于鈦板靶和靶塊，鈦管靶在量產效率和成本控制上更具優勢，但對加工精度（如焊接密封性、幾何公差）要求嚴苛。選購時需重點把控純度、微觀結構及供應商的工藝能力，使用中需優化濺射參數與維護流程，以延長靶材壽命并保障鍍膜質量... 【詳情】

工業涂層用鈦圓柱靶憑借其高純度、優異熱管理能力和適配多種復合涂層的靈活性，成為機械強化領域的核心材料。相較于純鉻靶，其耐磨性更優；相較于碳化鎢靶，成本顯著降低且工藝兼容性更廣。選購時需根據具體涂層類型（如TiN、TiAlN）選擇靶材純度與復合結構，并嚴格驗證微觀均勻性。使用中需優化濺射氣體比例與基片溫度... 【詳情】

TA2高純鈦靶通過提純工藝在保留工業純鈦成本優勢的同時，提升了純度與濺射性能，成為中端工業涂層的理想選擇。其性價比顯著高于4N5級高純鈦靶，但薄膜性能（如電阻率、耐高溫性）略遜于后者。選購時需重點把控Fe、O雜質含量及晶粒均勻性，應用中需優化濺射氣體比例與基片溫度。對于要求嚴苛的半導體或光學鍍膜，仍需選用4N5級以上靶材；而在工具強化、通用防腐領域... 【詳情】

TA1高純鈦靶管通過提純工藝在保留工業純鈦成本優勢的同時，顯著提升了雜質控制水平與濺射效率，成為中端鍍膜市場的理想選擇。其性價比優于4N5級靶管，且比TA2靶管更適合要求較高的耐磨與光學應用。選購時需嚴格把控純度、幾何精度及供應商的工藝成熟度，使用中需優化濺射參數并定期維護... 【詳情】

鈦靶板（平面靶）憑借其大面積成膜能力與高純度特性，成為半導體、光學及工業涂層領域的核心材料。相較于鈦管靶，其邊緣損耗較高但兼容性更廣；與鈦合金靶相比，純度更高但需依賴復合背板提升散熱效率。選購時需嚴格把控純度、微觀結構及供應商工藝能力，使用中需優化濺射參數與維護流程，以平衡鍍膜質量與成本效益... 【詳情】

TA1鈦圓柱靶通過提純工藝在保留工業純鈦成本優勢的同時，顯著提升了純度與濺射性能，成為中端工業涂層的理想選擇。其性價比優于4N5級高純鈦靶，且比TA2鈦靶更適合要求較高的耐磨與防腐應用。選購時需嚴格把控Fe、O雜質含量及晶粒均勻性，應用中需優化濺射氣體比例與基片溫度。對于高精密半導體或光學鍍膜... 【詳情】

TA1鈦靶管憑借其低成本、易加工和良好的耐腐蝕性，成為工業防腐與裝飾鍍層的經濟型選擇。相較于高純鈦靶管，其薄膜均勻性和耐溫性稍遜，但成本優勢顯著；與TA2鈦靶管相比，雜質控制更優，適合對鍍層質量要求稍高的場景。選購時需重點關注Fe、O雜質含量及幾何精度，應用中需控制濺射參數以避免膜層缺陷... 【詳情】

TA1鈦多弧靶憑借其高利用率、低成本及適配多弧工藝的特性，成為工業工具涂層與防腐鍍層的經濟型選擇。相較于磁控濺射靶，其薄膜更致密但需后處理液滴；相較于高純鈦靶，雖雜質較多但成本優勢顯著。選購時需重點關注雜質含量與晶粒均勻性，使用中需優化電弧參數與基片偏壓。對于高端精密涂層... 【詳情】

TA1鈦平面靶憑借其低成本、易加工及適中的性能，成為工業防腐與裝飾鍍層的經濟型選擇。其純度雖不及高純鈦靶，但通過工藝優化（如磁場設計、濺射參數調整）可滿足一般工業需求。選購時需重點關注雜質含量與幾何精度，應用中需控制氧污染并定期維護。對于精密半導體或光學鍍膜，建議選用高純鈦靶；而在防腐、裝飾... 【詳情】

異形鈦靶材通過定制化設計解決了復雜結構鍍膜的行業痛點，盡管初期成本與周期較高，但其在材料利用率、鍍膜精度上的優勢顯著。選購時需緊密協同設計與工藝團隊，優先選擇具備增材制造與精密加工能力的供應商，并通過小批量試制驗證可行性。在半導體3D集成、航空航天高溫涂層等前沿領域... 【詳情】

高純鈦靶指純度≥ 99.95%（3N5級） 的鈦濺射靶材，雜質總量≤ 500 ppm，關鍵元素（Fe、O、C等）需精確控制。根據應用需求，純度可提升至 99.999%（5N級），主要用于對薄膜性能要求嚴苛的半導體、光學及新能源領域... 【詳情】

新能源用鈦靶材是高性能薄膜制備的核心材料，需根據具體應用場景（如耐腐蝕、導電性、輕量化）選擇材質與規格。采購時需綜合考量純度、供應商資質及成本效益，并在使用中嚴格控制工藝參數與維護條件，以確保薄膜性能與設備壽命
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固態電池用鈦靶材是一種通過物理氣相沉積（PVD）技術（如磁控濺射）制備超薄鈦金屬層的高純度材料，主要用于固態電解質與電極界面層，通過抑制鋰枝晶生長、提升離子傳輸效率和界面穩定性，解決固態電池循環壽命短的核心痛點... 【詳情】

清潔建筑玻璃用鈦靶材是通過磁控濺射或反應濺射工藝，在玻璃表面沉積二氧化鈦（TiO?）或氮摻雜TiO?薄膜的功能性材料。其核心作用在于賦予玻璃自清潔、光催化分解污染物、抗反射及抗菌等特性，通過光催化反應分解表面有機物污染物，減少人工清潔頻率，提升建筑環保性與美觀性... 【詳情】

集成電路（IC）用鈦靶材是通過物理氣相沉積（PVD）工藝（如磁控濺射、離子鍍）在硅基芯片表面沉積鈦薄膜的高純度材料，主要用于導電粘附層、擴散阻擋層及接觸孔填充。其核心作用... 【詳情】

產品名稱：鈦板靶、鈦平面靶、鈦靶板品名：鈦合金靶板牌號：TC4 產地：寶雞 主要型式：圓靶/板靶/管靶牌號：TA1，TA2，TC4 圓靶：60/65/70/80/85/90/95/100(D)×20/30/32/35/40/4... 【詳情】

產品名稱：鈦靶材、鈦多弧靶, 鈦靶塊，鈦塊牌號：TA0，TA1，TA2，GR1，GR2執行標準：GB/T2695-1996，ASTM B348-97用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂... 【詳情】

產品名稱：鈦靶材，鈦旋轉靶，鈦靶管牌號：TA0，TA1，TA2/GR1，GR2執行標準：GB/T2695-1996，ASTM B348-97用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃... 【詳情】

產品名稱：鈦靶材、鈦板靶、鈦靶板牌號：TA0，TA1，TA2，GR1，GR2執行標準：GB/T2695-1996，ASTM B348-97用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃... 【詳情】

產品名稱：鈦靶材牌號：TA0， TA1， TA2， TC4， TC6， TC11， GR5， TA7 廠家：凱澤金屬主要形式：圓靶、板靶、管靶鈦含量≥：99.8(%)雜質含量：0.02(%)重量：不等(KG/塊)密度：4.51或4.50圓靶：60/65/70/8... 【詳情】

產品名稱：鈦靶塊執行標準： GB/T2695-1996，ASTM B348-97產 地：陜西寶雞材 質：Ti純 度：99.9%-99.99%晶 粒 度：<100um規格：可以按照用戶需要定制應用領域：適用電子、五金、鐘表、眼鏡、... 【詳情】

產品名稱：鈦靶材、鈦多弧靶, 鈦靶塊，鈦塊牌號：TA0，TA1，TA2，GR1，GR2執行標準：GB/T2695-1996，ASTM B348-97用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂... 【詳情】

產品名稱：TA0鈦靶執行標準： GB/T2695-1996，ASTM B348-97產 地：陜西寶雞材 質：Ti純 度：99.9%-99.99%晶 粒 度：<100um規格：可以按照用戶需要定制應用領域：適用電子、五金、鐘表、眼鏡、... 【詳情】

產品名稱：TA1鈦靶執行標準： GB/T2695-1996，ASTM B348-97產 地：陜西寶雞材 質：Ti純 度：99.9%-99.99%晶 粒 度：<100um規格：可以按照用戶需要定制應用領域：適用電子、五金、鐘表、眼鏡、... 【詳情】

產品名稱：TA0鈦靶產 地：陜西寶雞材 質：Ti純 度：99.9%-99.99%晶 粒 度：<100um規格：可以按照用戶需要定制應用領域：適用電子、五金、鐘表、眼鏡、首飾、刀具、模具、玩具、廚具、器皿... 【詳情】

名稱：鈦靶材、鈦多弧靶, 鈦平面靶，鈦旋轉靶牌號：TA0，TA1，TA2，GR1，GR2執行標準：GB/T2695-1996，ASTM B348-97用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面... 【詳情】

產品名稱：鈦靶材、鈦多弧靶, 鈦靶塊，鈦塊牌號：TA0，TA1，TA2，GR1，GR2執行標準：GB/T2695-1996，ASTM B348-97用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂... 【詳情】