鋁合金是我們日常生活中最為熟悉的金屬材料之一，它具有密度小、比強度高、導電與導熱性好等優良性能，工程應用廣泛。但同時鋁合金也存在抗腐蝕性能差，硬度較低、易磨損等不足。因此，對鋁合金材料進行表面強化處理，進而提高其綜合性能，具有廣闊的工業應用前景。

運用射頻增強磁控濺射技術在 7075 鋁合金表面沉積氮化鈦薄膜，并系統研究了氣體流量配比、濺射電流、射頻功率和基體偏壓等工藝參數對沉積膜層結構及性能的影響。使用小掠射角 X 射線衍射儀對膜層相結構進行分析，使用光學顯微鏡和掃描電子顯微鏡對膜層表面形貌和截面進行觀察，通過鹽霧腐蝕實驗和電化學腐蝕實驗測試評估樣品表面的耐腐蝕性能。

此外，對薄膜力學性能和摩擦性能進行了測試分析。TiN 薄膜呈現明亮的金黃色，表面均勻平整，缺陷較少。經 GXRD 掃描分析，膜層存在 TiN (111)、(200)和(220)取向。研究發現氮氣與氬氣的流量配比是制備 TiN 薄膜的關鍵，濺射電流直接關系著靶材的濺射率，影響著膜層成分，電流較大時膜層中出現了 Ti 相。

7075 鋁合金表面沉積 TiN 薄膜可以明顯改善表面力學性能。在直流偏壓-40V~-60V，射頻功率 100W~200W 范圍內最有利于膜層力學性能的提高。其中偏壓-60V，射頻功率 200W，濺射電流 0.7A 條件下樣品的表面顯微硬度最高(311HV)，比基體提高了 80％。基體偏壓對摩擦性能影響較大，在直流偏壓-40V，射頻功率 200W，磁控電流 0.7A 的條件下，樣品摩擦性能提高顯著。

鍍膜后樣品的耐腐蝕性能得到了提高。100W~200W 射頻功率下的樣品，耐腐蝕性能提高最顯著，在偏壓-30V，射頻功率 200W，磁控電流 0.7A條件下的樣品，經腐蝕實驗后表面形貌變化不大，電化學腐蝕電位相對于鋁合金基體提高了到 115mV，腐蝕電流降低了兩個數量級。