濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè)，如集成電路、信息存儲(chǔ)、液晶顯示屏、激光存儲(chǔ)器、電子控制器件等；亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域；還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業(yè)。其中靶材就是做芯片的重要材料。最知名的就是國(guó)外芯片——英偉達(dá)，一直屬于行業(yè)龍頭老大。但是隨著中國(guó)的實(shí)力日漸強(qiáng)度，我們的華為已經(jīng)自主的研發(fā)生產(chǎn)出與之抗衡的電子芯片。徹底打破了一直采用國(guó)外技術(shù)的這一現(xiàn)象。

像超大規(guī)模集成電路芯片制造領(lǐng)域是濺射靶材最高端的應(yīng)用，其對(duì)濺射靶材金屬純度的要求最高，通常要求達(dá)到99.9995%(5N5)以上，平板顯示器、太陽能電池用鋁靶的金屬純度略低，分別要求達(dá)到99.999%(5N)、99.995%(4N5)以上達(dá)到99.999(而一般金屬也就99.8的純度)。

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