鍍膜靶材是用物理或化學的方法在靶材表面鍍上一層透明的電解質膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變靶材表面的反射和透射特性。而鍍膜的方法有真空鍍膜和光學鍍膜，有不少用戶不知道這二者的區別，凱澤金屬通過多年的鈦靶、鉻靶、鎳靶、鋯靶等不同金屬材料的鍍膜，對于真空鍍膜和光學鍍膜的異同，結合相關資料，整理如下：

一、真空鍍膜概念

1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發并凝結于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。

2、真空鍍膜主要利用輝光放電將氬氣離子撞擊靶材表面，靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好，但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。

二、光學鍍膜概念

1、光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層（或多層）金屬（或介質）薄膜的工藝過程。在光學零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。

2、光學零件表面鍍膜后，光在膜層層上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制膜層的折射率和厚度，可以得到不同的強度分布，這是干涉鍍膜的基本原理。

三、真空鍍膜和光學鍍膜的區別

1、性質不同

通過上面對真空鍍膜和光學鍍膜的概念介紹，我們發現二者在性質方面有所不同。真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發并凝結于鍍件表面而形成薄膜的一種方法。而光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層金屬或介質薄膜的工藝過程。

2、原理區別

（1）真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射，使其在被涂覆的物體上凝固并沉積的方法。

（2）光的干涉在薄膜光學中廣泛應用。光學薄膜技術的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜，一般用來控制基板對入射光束的反射率和透過率，以滿足不同的需要。為了消除光學零件表面的反射損失，提高成像質量，涂鍍一層或多層透明介質膜，稱為增透膜或減反射膜。

3、方法材料不同

（1）真空鍍膜的方法

真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣達到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面，凝結而成薄膜。

陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對面，把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內，保持壓強約1.33～13.3Pa，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。

化學氣相沉積：通過熱分解所選定的金屬化合物或有機化合物，獲得沉積薄膜的過程。

離子鍍：實質上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機結合，兼有兩者的工藝特點。表6-9列出了各種鍍膜方法的優缺點。

（2）光學鍍膜的材料

氟化鎂：無色四方晶系粉末，純度高，用其制光學鍍膜可提高透過率，不出崩點。

二氧化硅：無色透明晶體，熔點高，硬度大，化學穩定性好。純度高，用其制備高質量Si02鍍膜，蒸發狀態好，不出現崩點。按使用要求分為紫外、紅外及可見光用。

氧化鋯：白色重質結晶態，具有高的折射率和耐高溫性能，化學性質穩定，純度高，用其制備高質量氧化鋯鍍膜，不出崩點。

4、膜厚不同

真空鍍膜一般金屬材料電鍍出來的膜厚度大概是3-5微米。光學鍍膜的膜厚測試可以在鍍膜機的中間頂上裝置膜厚測試儀即可。早期使用的是光控測試，現在一般用晶振片，使用的是晶振片震動的頻率來測試鍍膜的厚度。不同膜層的厚度不同。

以上內容就是真空鍍膜和光學鍍膜的異同的介紹，希望能幫到大家。真空鍍膜的過程很復雜，只是因為都需要高真空度而得名，光學鍍膜的鍍膜材料都是稀有金屬，這些材料隨著科技的發展其需求可能會增長。寶雞市凱澤金屬材料有限公司是一家研發生產鈦靶、鉻靶、鋯靶、鎳靶、鈦鋁靶、鈦絲、鈦加工件、鈦鍛件等金屬材料為主的高新技術企業，十余年專注于濺射靶材、鍍膜靶材、平面多弧靶材研發、生產，靶材組織結構均勻、濺射成膜性能優異，如果您對靶材有疑問或需要，歡迎聯系凱澤金屬。

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