濺射鍍膜就是最近發展起來的一種新的表面處理技術。表面處理技術能使材料的物理機械和化學性能得到提高,而濺射鍍膜比以往的真空鍍膜具有“高速、低溫”兩個顯著的特點。

靶材形狀:板材,圓片,矩形,方形,圓環,圓棒,臺階圓片,臺階矩形,三角形,管狀靶,套靶等或按客戶要求訂做,可根據客戶提供的圖紙要求加工,并可以為客戶提供部分靶材的綁定服務。

參考尺寸:直徑≤3556mm(14英寸),長度≤1000mm,寬度≤200mm,厚度≤20mm

濺射工藝有哪幾種?

濺射工藝主要用于濺射刻蝕和薄膜淀積兩個方面。

淀積薄膜時,濺射源置于靶極,受氬離子轟擊后發生濺射。如果靶材是單質的,則在襯底上生成靶極物質的單質薄膜,若在濺射室內有意識地引入反應氣體,使之與濺出的靶材原子發生化學反應而淀積于襯底,便可形成靶極材料的化合物薄膜,通常,制取化合物或合金薄膜是用化合物或合金靶直接進行濺射而得。

濺射刻蝕時,被刻蝕的材料置于靶極位置,受氬離子的轟擊進行刻蝕。刻蝕速率與靶極材料的濺射產額、離子流密度和濺射室的真空度等因素有關。濺射刻蝕時,應盡可能從濺射室中除去濺出的靶極原子。常用的方法是引入反應氣體,使之與濺出的靶極原子反應生成揮發性氣體,通過真空系統從濺射室中排出。

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